原告湖南科力远新能源股份有限公司因与被告......
        2011-07-11娱网棋牌浏览次数:5350
 原告湖南科力远新能源股份有限公司,住所地湖南省长沙市经济技术开发区星沙南路6号。

    法定代表人钟发平,董事长。

    委托代理人(特别授权)王瑞明,北京市泽和律师事务所律师。

    委托代理人(特别授权)唐铁军,北京北翔知识产权代理有限公司专利代理人。

    被告英可高新技术材料(沈阳)有限公司,住所地辽宁省沈阳市浑南高新技术产业开发区世纪路22号。

    法定代表人胡杰仕,董事长。

    委托代理人(特别授权)何放,北京市路盛律师事务所律师。

    委托代理人(特别授权)吴振江,北京市路盛律师事务所专利代理人。

    被告湖南凯丰新能源有限公司,住所地湖南省长沙市经济技术开发区寿昌路1号。

    法定代表人武卫,总经理。

    委托代理人(一般代理)余桂红,女,汉族,1985年3月5日出生,住湖南省邵阳市双清区渡头桥镇群力村1组216号。

    原告湖南科力远新能源股份有限公司(以下简称科力远公司)因与被告英可高新技术材料(沈阳)有限公司(以下简称沈阳英可公司)、湖南凯丰新能源有限公司(以下简称凯丰公司)侵犯发明专利权纠纷一案,于2008年11月10日向本院提起诉讼。本院受理后,依法组成合议庭进行审理。原告科力远公司在起诉同时申请证据保全,本院作出(2008)长中民三初字第0502-1号民事裁定书,并依原告请求在执行上述保全裁定时向被告凯丰公司送达起诉副本材料。被告沈阳英可公司提出管辖异议,本院于2008年12月5日以(2008)长中民三初字第0502-2号民事裁定驳回其管辖异议申请。其仍不服并提出上诉,2009年1月15日,湖南省高级人民法院作出(2009)湘高法立民终字第8号民事裁定书,维持本院驳回其管辖异议的裁定结果。因被告沈阳英可公司就本案管辖权向最高人民法院申请再审,2009年3月25日,最高人民法院以(2009)民申字第147号民事裁定书,驳回了沈阳英可公司的再审申请。2009年3月4日,本院应原告请求到湖南省公安厅调取了相关材料。第一次开庭后,本院到国家知识产权局调取了相关材料并向案外人沈阳天润化工有限公司(以下简称天润公司)进行调查。本院于2009年7月22日、8月11日、12日不公开开庭审理了本案,原告科力远公司的委托代理人王瑞明、唐铁军,被告沈阳英可公司的委托代理人何放、吴振江到庭参加了诉讼,凯丰公司的委托代理人余桂红参加了2009年7月22日上午、8月11日、8月12日下午的诉讼活动,未参加2009年7月22日下午、8月12日下午的诉讼活动,本院依法缺席审理。本案现已审理终结。

    原告科力远公司诉称:原告合法拥有“一种海绵状泡沫镍的制备方法”的发明专利,该专利申请日为1995年3月11日,公开日为1995年10月11日,公告授权日为1998年10月14日,专利号为ZL95102640.2。原告发现,被告沈阳英可公司未经原告许可,自2003年11月起就开始使用与原告专利方法相同的技术生产与原告相同的产品,且将其依照该方法生产获得的泡沫镍大规模销售到国内和国际市场。被告凯丰公司未经原告许可,为生产经营为目的,从被告英可沈阳公司直接购买依原告专利方法直接获得的连续卷式泡沫镍,并使用其生产镍氢电池。两被告的行为侵犯了原告的专利权,给原告造成了巨大的经济损失。为维护原告的合法权益,特诉至法院,请求依法判令:1、判令两被告立即停止侵犯原告ZL95102640.2发明专利权的行为;2、判令被告沈阳英可公司赔偿原告经济损失人民币3800万元;3、判令两被告承担本案的全部诉讼费用。本案开庭时,原告就其起诉状中事实与理由部分内容提交了“更正表”,该更正表本院当庭送达给两被告,两被告对原告就其诉状内容的更正无异议。

    被告沈阳英可公司答辩称:一、原告起诉答辩人实施专利侵权行为没有事实依据。1、答辩人生产泡沫镍产品所使用的方法未落入涉案专利的保护范围,未侵犯原告专利权。理由是: 原告自2007年6月1日方从他处受让涉案专利,此前,原告并非该专利的权利人或利害关系人;且泡沫镍产品的生产技术并非均为涉案专利所覆盖,而原告专利保护范围十分狭窄,原告在诉状中所述所涉案专利方法并非是至今不可突破;原告不能仅凭沈阳英可公司经营泡沫镍制造和销售就断言我公司自设立起就使用与涉案专利方法相同的技术生产泡沫镍产品;因泡沫镍产品已经是现有技术,原告未提供答辩人未经专利权人许可实施涉案专利的证据;答辩人被控的泡沫镍生产方法未落入涉案专利的保护范围,未侵犯专利权,而且该方法所包含的核心技术构成答辩人受法律保护的商业秘密,原告通过公安机关刑事侦查取得的证据因侵害答辩人合法权益,在合法性及关联性方面存在很大的争议点。2、答辩人已申请宣告涉案专利无效并被受理,涉案专利的有效性和稳定性已经受到有力挑战,法院应对案件是否进行中止进行审查判断。

    二、被控侵权技术与专利技术方案存在区别。首先,专利权利要求的内容本身缺乏法律规定的专利性,如:关于“聚醚聚胺酯”表述并不科学;电流密度、溅射时间、两电极间距离等工艺参数解释不清楚;说明书对于所用的粗化的聚醚聚胺酯没有提供任何来源出处,导致本领域技术人员需要经过创造性劳动才能选择合适的粗化的聚醚聚胺酯来再现发明;权利要求中仅对电镀时间进行了限定,对于其它参数如电镀液中的镍离子含量、电镀液的pH值、电沉积的温度等没有限定,所以缺乏必要技术特征;后处理时所采用的“气氛”不清楚;如何解释“磁控溅射方法”、“经镀镍,水洗水燥等后处理过程”等工艺;“纯镍”中的“纯”字含义不清楚。由于涉案专利文件未对上述参数或工艺进行解释,导致涉案专利保护的技术范围不清楚。若开庭时进行是否侵权的技术比对,则有必要先对涉案专利进行司法鉴定。其次,涉案专利生产的仅为块状泡沫镍,不涉及连续化生产的卷式泡沫镍,答辩人生产工艺与专利权利要求书反映的技术方案既不相同,也不等同,根本不构成侵权。另外, 由于涉案专利修改后放弃了原公开文本中权利要求限定的较大的保护范围, 授权的技术方案保护范围明显缩小, 且区别技术特征表现为参数范围限定, 因此, 在进行侵权对比时, 对以参数范围限定的技术特征, 不适用等同原则。

    三、原告要求3800万元经济损失没有事实和法律依据。首先,对受让之前的所谓侵权行为,原告没有诉讼主体资格,无权提出相关法律主张。其次,原告主张的依答辩人的所谓收益作为赔偿计算依据缺乏事实和法律依据:仅就赔偿而言, 原告没有实际损失,因涉案专利系受让取得, 不是自己独创, 没有研制费用成本;受让取得前, 原告己规模化生产泡沫镍产品, 使用的技术与本专利无潜在知识产权纠纷。第三、原告同时主张商业秘密权利, 难以厘清被诉专利侵权与被控商业秘密对沈阳英可公司受益的贡献;原告不仅应在本案中披露其商业秘密与本案专利在技术上的关联性同样,还应披露其商业秘密与本案专利在技术上的区别。第四、原告取得专利的目的出于不正当竞争目的,进行恶意诉讼。第五、原告作为上市公司, 利润可以查明, 应以原告实际损失为赔偿计算依据。

    四、作为中外合资经营企业,沈阳英可公司是依法成立的中国法人,在法律上享有和原告平等的权利和义务,原告作为主营业务为泡沫镍产品的上市公司,和答辩人在泡沫镍产品市场上存在难以避免的竞争关系。然而在本案专利侵权纠纷中,原告起诉状中所谓“直接影响我国新能源战略的实施,严重危害我国混合电动汽车产业安全”的言论与本案专利纠纷争议无关,且该言论有损害答辩人名誉权甚至滥用知识产权之嫌,答辩人保留追究原告相关法律责任的权利。

    五、本案在程序上还存在证据保全的证据确定管辖等相关问题。

    综上所述,答辩人认为原告全部诉讼请求毫无事实和法律依据,应予以驳回。

    被告凯丰公司答辩称:其公司能够提供所使用的泡沫镍产品的合法来源,且对该产品或生产该产品的方法是否侵权并不知情,依据法律规定,其公司不应承担赔偿责任。

    原告为支持其诉讼主张,在本案举证期限内向本院提交了47份证据,并于本案第二次开庭时当庭补充提交了8份证据,分别是:

    第一组证据系证明原告合法拥有涉案专利权及其他相关权益的证据,包括证据1-9,及补充证据1-8,分别为:

    证据1、2、3、5、6:分别为ZL95102640.2号发明专利的专利证书、专利说明书、专利登记簿副本、专利缴费凭证。

    证据4:系国家知识产权局于2008年8月4日下发的关于涉案专利权人变更为本案原告的“手续合格通知书”。

    以上证据1-6拟证明原告合法拥有涉案专利权。

    证据7:天润公司与长沙力元新材料股份有限公司(以下简称长沙力元公司)签订的《专利转让与合作合同》,拟证明天润公司不仅将涉案专利权转让,而且将原专利权人所拥有的基于涉案专利所产生的权利和利益一并转让给长沙力元公司,进一步证明本案原告有权对转让生效前的侵权行为提起诉讼并要求侵权人承担侵权法律责任。

    证据8:长沙力元公司更名为本案原告的工商查询资料,拟证明长沙力元公司所享有权益由原告承继。

    补充证据1:2007年4月29日,长沙力元公司与广西梧州三和新材料科技有限公司(以下简称三和公司)签订的《专利实施许可合同》。

    补充证据2:2007年5月10日,长沙力元公司给天润公司转款50万元的银行《资金汇划补充凭证》。

    补充证据3:2007年5月29日,天润公司给长沙力元公司开具的已收转让费50万元的发票。

    补充证据4:2009年1月23日,原告给天润公司转款80万元的银行《付款回单》。

    补充证据5:2009年2月26日,天润公司给长沙力元公司开具的已收技术服务费80万元的发票。

    补充证据6:2007年8月1日,长沙力元公司给天润公司转款130万元的银行《资金汇划补充凭证》。

    补充证据7:2007年8月24日,天润公司给长沙力元公司开具的已收专利转让与合作费用130万元的发票。

    补充证据8:长沙市中级人民法院向天润公司进行调查的笔录。

    以上补充证据1至8拟证明天润公司与原告间签订的《专利转让与合作合同》所规定的生效条件已经成熟,合同已生效并实际履行。

    证据9:2009年2月20日,常德力元新材料有限责任公司(以下简称常德力元公司)提出的《专利纠纷调解请求书》,拟证明原告有权提起本案诉讼,且原告作为专利权人是确定的事实,本案无需中止诉讼。

    第二组证据系关于被告侵犯了原告专利权及其他相关权益的证明,包括证据10至37、证据42至47,分别是:

    证据10:2003年4月8日,天润公司与沈阳金昌普新材料股份有限公司(以下简称金昌普公司)签署的《专利技术合作合同》。

    证据11:2007年4月16日,天润公司要求与金昌普公司解除专利技术合作合同的通知及快递单。

    证据12:金昌普公司文件签收单一份。

    证据组10至12拟证明被告沈阳英可公司未得到专利权人的许可。

    证据13:CVRD Inco公司第二届(中国)能源材料研讨会(2007)有关会议材料。

    证据14:“中国粉末冶金商务网”文章《INCO瞄准中国不锈钢产业进军镍市》。

    证据13-14拟证明被告沈阳英可公司生产泡沫镍所使用的生产方法与原告的专利方法相同,且泡沫镍年产量为120万平方米。

    证据15:沈阳市中级人民法院[2005]沈民初字第36号民事判决书。

    证据16:金昌普公司与被告沈阳英可公司签署的《技术转让协议》。

    证据17:被告沈阳英可公司的公开声明。

    证据15至17拟证明金昌普公司未经专利权人许可向被告沈阳英可公司转让了包含本案所涉专利方法在内的专利技术,且沈阳英可公司自认使用了从金昌普公司处得到的涉案专利方法。

    证据18至22:系长沙市中级人民法院调取的证据,包括:真空镀工段生产记录复印件二页、成品或半成品包装袋封面复印件九页;湖南省公安厅经侦总队侵犯商业秘密卷宗部分资料;视听资料;沈阳英可公司泡沫镍生产工艺规范(部分)。拟证明被告沈阳英可公司生产泡沫镍的方法落入原告专利的保护范围。

    证据22至29:系教科书或已公开的专利文献,拟证明被告沈阳英可公司生产泡沫镍的方法落入原告专利的保护范围,包括:1992年由化学工业出版社出版的《化工辞典》(第三版)、美国专利US4882232及其部分译文、1989年由东北工学院出版社出版的《真空镀膜技术与设备》、2006年5月8日发布的电池用泡沫镍国家标准、1993年由天津科学技术出版社出版的《电镀原理与工艺》(第二版)、2003年由冶金工业出版社出版的《薄膜材料制备原理、技术及应用》(第二版)、本案原告涉案专利ZL95102640.2的申请公开文本。

    以上证据13至29拟证明被告沈阳英可公司使用了涉案专利方法。

    证据30至37、证据42至47:系被告沈阳英可公司销售其泡沫镍产品给被告凯丰公司的销售合同、采购合同、银行付款凭证,销售的泡沫镍产品实物,以及长沙市中级人民法院证据保全时的调查笔录。拟证明沈阳英可公司沈阳英可公司将其依照专利方法直接获得的产品直接销售给了被告凯丰公司,且凯丰公司使用可依照专利方法直接获得的产品。

    第三组证据拟证明沈阳英可公司因侵权获利并给原告造成了巨大经济损失,原告因调查、制止侵权支付了合理费用。包括证据38至41,分别是:

    证据38:被告英可沈阳公司的财务资料。

    证据39:被告英可沈阳公司的企业资料查询卡片。

    证据40:原告聘请律师的委托代理协议。

    证据41:律师费发票。

    被告沈阳英可公司对原告证据发表如下质证意见:对原告证据1至5,证据真实性,合法性、关联性无异议,但认为不能达到原告的证明目的。对证据6的真实性和关联性无异议,但对证明目的有异议,年费发票未显示缴费年度,认为不能直接证明缴费有效并导致专利存续。对证据7合同真实性有异议,该合同无签署日期,没有合同中明确约定的合同附件,不完整,天润公司印章与原告证据10中的印章不一致;该证据涉嫌以合法形式掩盖非法目的,对合法性不认可;原告未能举证证明该合同是否成立并生效,且合同内容约定不清,不能证明原告取得受让前诉权。对证据8的真实性、合法性和关联性无异议。认为证据9形式上不完整,常德力元公司与原告的协议书未附,该证据不合法,因存在权属纠纷,不能证明原告的证明事项。对证据10真实性和合法性无异议,天润公司印章与原告证据7、11中的不一致,不能实现原告证明目的。证据11、12、13没有原件,对真实性、合法性和关联性均不认可。证据14原件复印件不一致,且不是完整打印,对其真实性不予认可。证据15真实性没有异议,对关联性有异议。证据16没有原件,对真实性有异议,对合法性有异议。证据17没有原件,因是英可沈阳公司发出的,对真实性无异议,对合法性有异议。证据18、19真实性无异议,认为是原告损害被告沈阳英可公司合法权益取得的证据,对合法性有异议。对证据20,因公安机关在沈阳案件中量取的氧化炉数据有误,故被告对证据20的真实性表示怀疑,对其合法性有异议,认为是原告损害被告沈阳英可公司合法权益取得的证据,不具有合法性。对证据21的真实性和合法性均有异议,该部分证据涉及被告英可沈阳公司的商业秘密,对原告的取证方式合法性不认可。对证据22真实性无异议,但认为其是损害沈阳英可公司合法权益方式取得的证据,对其合法性有异议。对证据23、24、25、26、27、29、30的真实性和合法性均无异议。对证据28真实性无异议,对其关联性有异议。对证据31至38的真实性无异议,对合法性不予认可,认为原告以保全证据证明诉讼管辖违反法定程序,对关联性不予认可,认为产品销售到长沙不等于销售行为发生在长沙,不能因此当然获得管辖权。对证据39、40的真实性无异议。对证据41真实性无异议,但对其关联性有异议,要求原告出具相应的付款凭证,要求原告说明具体的内容以及0501大连案和0502沈阳案之间的律师费用分配。对证据42至47的真实性无异议,但对关联性有异议,认为不能证明销售行为发生在长沙。对原告补充证据1至8形式的真实性无异议,但认为补充证据1不能证明原告单独起诉的地位,认为补充证据2至7中的三次划款不能对应涉案专利转让合同中的具体数额,认为补充证据8中天润公司总经理在法院调查笔录中的证言可信度不高。

    被告凯丰公司对原告证据1至9、证据38至47无异议,对其他证据未发表意见。

    被告沈阳英可公司为支持其诉讼主张,在举证期限内提交了41份证据,在第二次开庭时补充提交了8份证据,分别是:

    证据1:系从中国国家图书馆科技查新中心复制的文献,包括:

    1-1:《车用发动机》1987年8月出版,文献名《改善柴油机性能和使用寿命的复合合金活塞》,作者:JACK YAMAGUCHI;

    1-2:《电源技术》1994年第一期,文献名《泡沫镍贮氢电极成型工艺研究》,作者:张士杰;

    1-3:《电池》1994年2月25日出版,《泡沫镍产品广告》,亚洲龙实业公司;

    1-4:《科技情报开发与经济》1994年4月20日出版,文献名《国内外镍-金属氢化物电池的研究》,作者李晋平、李冬梅;

    1-5:《沈阳工业大学学报》1991年12月出版,文献名《高孔隙度金属-泡沫镍的研制》,作者戎旭滨、陈立佳、崔思林、李卫立。

    证据2:(2008)沈恒证民字第4437号公证书,拟证明沈阳中科腐蚀控制工程技术中心在1994年已经销售发泡镍(泡沫镍)。

    证据3:专利号为92101326.4、名称为镍氢电池及其制造技术专利的申请公开说明书,说明至少在申请日前已有工业化使用,泡沫镍不是新产品。

    以上证据1至证据3拟证明泡沫镍产品为涉案专利的现有技术。

    证据4:2003年2月号,第13卷第1期《中国有色金属学报》上的“连续泡沫镍制造技术”文章。

    证据5:系2006年5月8日发布的《电池用泡沫镍国家标准》GB/T 20251-2006。

    证据6:系检索文献,包括:

    6-1:申请号为97104463.5,名称为连续制造卷式发泡金属带材的技术的发明专利申请公开说明书,申请人为沈阳昌普科技发展有限公司,申请日是1997年6月9日;

    6-2:《泡沫镍的制备方法》文章,稀有金属1997年6期,作者:惠志林,张景怀;

    6-3:《泡沫镍的制备工艺与性能》文章,稀有金属2001年5月,作者:张景怀,惠志林,方政秋;

    6-4: 《泡沫镍工艺设计及产品性能改进》文章,稀有金属与硬质合金,2006年6月;

    6-5: 《制备工艺条件对泡沫镍抗拉强度的影响》文章,中国有色金属学报,1999年7月,作者刘培生,付超等。

    6-6:《泡沫镍的制备工艺及性能参数》文章,电池工业2002年第6期,2002年12月出版,作者包括钟发平,单位为长沙力元公司;

    6-7:《用电沉积方法制备泡沫镍材料》文章,该证据系沈阳英可公司第二次开庭时补充提交;

    6-8:《电沉积法制备得泡沫镍的晶体结构与磁性能》文章,该证据系沈阳英可公司第二次开庭时补充提交。

    以上证据4至证据6系关于泡沫镍产品的用途、生产、市场发展等的介绍。

    证据7:系被告沈阳英可公司与泡沫镍有关的专利文件及专利申请文件,包括8份专利文献,专利号分别为:97104463.5、01128040.9、03211969.0、96239234.0、97216739.0、2005100 47729.5、200510136785.6、200610046339.0。

    证据8:系原告与泡沫镍有关的专利文件及专利申请文件,包括24份专利文献,专利号分别为:99115542.4、00126771.X、02114153.3、03124796.2、200410022831.5、200410022830.0、200410022872.4、200410022873.9、200510107443.1、200510031 184.9、200510031443.8、200510031679.1、98230333.5、2006200 50257.6、01114535.8、01128040.9、03211969.0、200610046339.0、200510136785.6、200610031587.8、200710034317.7、2007100 34318.1、200710034548.8、200810030962.6。

    证据9:系其他与泡沫镍有关的专利文件及专利申请文件,包括4份专利文献,专利号分别为:01119666.1、02115117.2、00212809.8、00246953.7。

    证据10:涉案专利的审查档案。

    证据11:系涉案专利无效请求书及其附件。

    证据12:系涉案专利无效请求书附件,包括:

    12-3:《新的真空沉积工艺》 (作者J.J. Bessot, 发表于《Metal Finishing》 1980年3月刊);

    12-4:《新的真空沉积工艺》(作者J.J. Bessot, 发表于《Metal Finishing》1980年4月刊);

    12-5:美国专利(专利号4882232,公开日1989年11月21日)(下文称对比文件6);

    12-6:美国专利(专利号4,975,230,公开日1990年12月4日)(下文称对比文件7);

    12-7:本专利申请案卷的全部文件,因与沈阳英可公司证据10内容一致,被告沈阳英可公司当庭撤回该份证据;

    12-8:美国专利(专利号5,015,493,公开日1991年5月14日)(下文称对比文件1);

    12-9:美国专利(专利号5,234,561,公开日1993年8月10日)(下文称对比文件2);

    12-10:美国专利(专利号4,802,967,公开日1989年2月7日)(下文称对比文件3);

    12-11:美国专利(专利号3,984,907,公开日1976年10月12日)(下文称对比文件4);

    12-12:中国专利(专利号85102600,公开日1986年9月17日)(下文称对比文件5)。

    证据13:系原告答复无效请求的意见。

    证据14:复审委3863号复审决定。

    14-1:《发明与专利审查基础教程》。

    证据15:薄膜科学与技术手册类图书资料,《真空镀膜技术与设备》(封面、扉页、前言、目录3页、正文1-24、80-136、248-275、292-293页);

    15-1:《薄膜科学与技术手册》(上下册)(扉页、上册目录6页、正文1-25、400-454、576-581、下册目录6页、正文1-2、871-876、969-978、照片7页、附录6、附录7、附录8-1、附录8-2、附录9、993-996页);

    15-2:《薄膜物理与技术》(封面、简介、出版说明、前言2页、目录2页、正文1-2、60-103页);

    15-3:《表面沉积技术》(封面、扉页、目录2页、正文168-189);

    15-4:《金属真空表面强化的原理与应用》(封面、扉页、目录2页、正文30、75-82、86-93页);

    15-5:薄膜材料与薄膜技术(第二版)(封面、扉页、前言、目录2页、正文58-61、63-67);15-6:固体薄膜材料与制备技术(封面、扉页、前言、目录1页、正文47-54页);

    15-6:固体薄膜材料与制备技术(封面、扉页、前言、目录1页、正文47-54页)。

    证据16:专业期刊文献及申请日前的专利文件,包括:

    16-1: 《直流磁控管高速溅射沉积镍》,《真空科学与技术杂志A》,第二辑;

    16-2: 美国专利 4,326,931 多孔金属连续生产工艺,公开日1982年4月 27日;

    16-3:日本专利公开专利公报,专利号“平3-30259”,公开日1991年2月8日;

    16-4: 美国专利4251603,公开日1981年2月17日。

    证据20:《热处理工工艺入门》等技术资料,包括:

    20-1:《金属热处理300问》;

    20-2:《热处理工工艺入门》;

    20-3:《热处理工技术问答》;

    20-4:《金属热处理工艺学》;

    20-5:《表面防护与装饰》;

    20-6:《粉末冶金原理》(74年版);

    20-7:《粉末冶金原理》(82年版)。

    以上证据7至证据16、证据20拟证明涉案专利并非原告所称”不能突破”, 专利保护范围窄、专利很可能被无效。

    证据17:《塑料品种与性能手册》等检索文献,包括:

    17-1:《高分子材料》(封面、绪论);

    17-2:《塑料品种与性能手册》(封面、正文574-579);

    17-3:《泡沫塑料手册》(封面、扉页、序、目录7页、正文54-55、84-85);

    17-4:《聚氨酯泡沫塑料》(封面、正文1-7);

    17-5:《塑料、弹性体、复合材料手册——性能及加工》(封面、扉页、目录6页、正文45-46);

    17-6:《化工产品手册——树脂与塑料》(封面、正文464-465);

    17-7:《国内外树脂(塑料)牌号手册》(封面、扉页、目录4页、正文1-7页);

    17-8:聚氨酯的FTIR光谱与热分析研究,该证据系沈阳英可公司第二次开庭时补充提交。。

    证据18:软质聚氨脂泡沫塑料国家标准。

    证据19:聚醚泡棉和聚酯泡棉技术资料(上海井上高分子制品有限公司提供);

    19-1: 上海井上公司的工商基本资料和网页。

    证据21:标签。

    证据22:采购订单、进口报关单及入库单等翻译件。

    证据23:电子邮件公证。

    证据24:以下四份证据系被告沈阳英可公司第二次开庭时补充提交,包括:

    24-1:靶和阳极空间分布示意图;

    24-2:溅射空间示意图;

    24-3:泡沫镍热处理声称图解;

    24-4:热处理炉炉温曲线。

    以上证据17至证据19、证据21至证据24拟证明被告沈阳英可公司被控侵权工艺未落入涉案专利保护范围。

    证据26:系金昌普公司与被告沈阳英可公司的技术转让协议,拟证明被告沈阳英可公司的被控侵权技术系合法受让等。

    证据27:系沈阳市中级人民法院民事判决书,被告沈阳英可公司以该证据与原告证据15相同为由未提交该证据材料。

    证据28:申请法院向国家知识产权局调取的专利转让协议,拟证明原告受让专利相关事宜。

    证据29:2003年8月原告的上市报告及附录。

    证据30:2007年8月《力元新材非公开发行股票购买资产报告书》。

    以上证据29、证据30拟证明原告自认涉案专利对泡沫镍生产并非“不可突破”;原告对自身相关专利等无形资产的评估及受让涉案专利后未实际产生受益。

    证据31:媒体报道:《科力远总部调查》2008年11月10日发布。

    证据32:媒体报道:新华网报道《最高机密被复制》。

    证据33:湖南科力远新能源股份有限公司重大诉讼公告。

    证据34:(2008)沪黄证经字第9415号公证书。

    证据35:原告致泡沫镍客户的公开信。

    证据36:(2009)沪黄证经字第807号公证书。

    以上证据31至证据36拟证明原告借本案诉讼为手段不正当竞争争取沈阳英可公司的客户,以提高泡沫镍产品价格达成市场垄断地位。被告沈阳英可公司庭审时撤回证据25。

    证据37:原告公布的上市公司年报、相关网站报道等,包括:2006年年度报告、2007年半年度报告、2007年第三季度报告、2007年年度报告、网站报道科力远历年财务数据。

    证据38:2008年3月《发行股份购买资产实施情况报告暨股权变动报告书》。

    证据39:科力远董事长关于2008未达到盈利预测的致歉信;潇湘晨报报道(3月18日)。

    以上证据37-39证明原告对自身相关专利等无形资产的评估及历年的财务资料。

    证据40:无效中止文件,拟证明原告虚构权属争议以中止复审委无效审查。

    证据41:原告与天润公司的《专利转让与合作合同》,拟证明原告受让专利的目的并非为自己实施而是作为工具借诉讼等手段不正当竞争获取市场垄断地位。

    证据42:天润公司工商基本信息,拟证明天润公司没有实际生产泡沫镍。该证据系被告沈阳英可公司第二次开庭时补充提交。

    原告对被告沈阳英可公司的证据质证如下:对证据1-1、1-5、10、12-5、13、15、18、19、20、21、26、27的真实性、合法性和关联性均无异议。对证据4、5、6-1至6-6、24-1、33真实性、合法性和关联均无异议,但对其证明力有异议。对证据1-2、1-3、1-4、2、11、14、16-1、16-2、16-4、17-1至17-7、22、28、29、30、34至40真实性、合法性无异议,但对其关联性不认可。对证据31、32的真实性不认可。原告以无原件可核对,或因沈阳英可公司提交证据材料的时间超过举证期限为由,对证据3、6-7、6-8、证据7至证据9 、证据12、16-3、17-8、19-1、24-2、24-3、24-4、42的真实性有异议。对证据23的形式真实性认可,但对公证书内容的真实性表示怀疑。对证据41的合法性有异议。

    被告凯丰公司认为被告沈阳英可公司的证据与其公司无关,对真实性、合法性无异议。

    被告凯丰公司未提交证据。

    本院经对证据进行审查,并分析各方当事人的意见,认证如下:

    关于原告提交的证据:本院认为,结合两被告对原告证据的质证意见,两被告对原告证据1至6、证据8、15、23至证据30、39至41、补充证据1-8真实性、合法性无异议,本院对此部分证据予以认定,可以作为定案依据。两被告对证据31至证据38、证据42至证据47的真实性无异议,但认为以保全证据证明本案诉讼管辖违反法定程序,属违法证据不认可其合法性。对此,本院认为证据31至37、证据42至47是本院依法定程序合法保全的证据,证据18至证据22是本院从湖南省公安厅调取的证据,本院认为,由于此部分证据亦系人民法院按照诉讼程序取得的证据材料,此部分证据的真实性、合法性应予认定,但由于人民法院民事案件审理中仅涉及当事人之间的民事纠纷,故本院就此部分证据中与本案诉争之专利侵权有关的材料进行审核认定,对其他部分不予审查。对被告沈阳英可公司认为原告证据未提供原件或有形式瑕疵的证据7、11、12等,本院认为,证据7系天润公司与长沙力元公司的专利转让与合作合同,证据11、12系天润公司要求解除与金昌普公司专利合作合同的通知及通知签收单等,证据7原告提供了原件,就该份合同和解除合同通知证据11上天润公司的公章不一致的情况,经本院调查,系上述证据产生前后天润公司变更公司印章所致,且天润公司还证实已通过面送和邮寄两种方式向金昌普公司送达了解除合同通知书,与金昌普公司解除了合作合同,故此证据7、11、12的真实性、合法性及与本案的关联性应予认定。原告证据9系专利纠纷调解请求书,沈阳英可公司以原告未提交常德力元公司与原告的协议书为由,对此证据的真实性提出质疑,本院认为,该份证据原告提供了原件,形式合法,内容真实,与本案诉争权利人资格具有关联性,可以作为定案依据。证据13系被告沈阳英可公司公司的会议资料,由于原告不能证明此证据中手写部分内容的合理来源,本院仅对该证据中印刷文字部分内容予以认定。沈阳英可公司对原告证据14内容的完整性提出质疑,由于原告无其他证据佐证该证据内容,本院对此证据不予认定。证据16原告虽未提供原件,但其同被告沈阳英可公司提供的证据26系相同证据,本院予以认定。

    关于被告沈阳英可公司提交的证据:本院认为,对原告和被告凯丰公司对真实性未提出异议的部分证据,包括证据1、2、4、5、6、10、11、12-5、13、14、15、16-1、16-2、16-4、17、18、19、20、证据21、22、24-1中的照片、26、27、28、29、30、33、34至证据40、41本院均予以认定;对因未提交原件或超过举证期提交的有关专利或文献如证据3、6-7、6-8、7、8、9、12中除12-5以外的其他证据,以及证据16-3、17-8、19-1、24-2、24-3、24-4等,本院对其真实性予以认定,对证据23公证书,因符合证据形式要求,对其真实性予以确认,但以上证据能否证明被告的证明目的,由本院根据案情确定。证据31、32系两份媒体报道,因无法确认其内容的真实性,本院对该份证据不予认定。证据41与原告证据7系同一证据,予以认定。证据42系天润公司的工商查询资料,内容真实,来源合法,予以认定。

    依原告申请,本院对被告凯丰公司使用的泡沫镍产品的来源及实物进行了证据保全,并到湖南省公安厅调取了与本案专利侵权纠纷有关的证据。 还依被告沈阳英可公司的申请到国家知识产权局调取得原告取得涉案专利的转让合同。根据第一次庭审中原、被告方对原告证据中有关案外人天润公司公章不一致的情况,本院向天润公司进行了调查核实。各方当事人对本院调取证据的形式真实性无异议,但被告沈阳英可公司对本院保全和到公安机关调取证据的合法性提出异议。本院认为,人民法院依据法律程序进行证据保全和调查取证,程序上无违法之处,所取证据与本案诉争有关联性,可以作为本案的证据材料使用。

    根据上述定案证据,本院经审理查明:1995年3月11日,吉林大学向国家知识产权局申请了 “一种海绵状泡沫镍的制备方法”发明专利,专利申请号为95102640.2,该发明专利公开日为1995年10月11日,授权日为1998年9月12日。ZL95102640.2发明专利的专利权人变更情况为:2002年3月28日更为石殿普、张丽芳、李文明;2003年3月19日变更为天润公司;2007年6月1日变更为长沙力元公司;2008年7月16日,长沙力元公司更名为科力远公司,即本案原告,2008年8月15日ZL95102640.2专利权人变更为本案原告。

    2008年12月16日,原告向国家知识产权局缴纳了涉案专利的专利年费6000元;2008年12月19日,国家知识产权局向原告出具一份《专利收费收据》。

    ZL95102640.2发明专利权利要求1记载的内容为:一种海绵状泡沫镍的制备方法,使用经过粗化的聚醚聚胺脂作基底,制作电镀用阴极;经镀镍,水洗水燥等后处理过程,制备出海绵泡沫镍,所说的镀镍是在含镍离子的电镀液中进行,时间为(40~50分钟);本发明的特征在于所说的制作电镀用阴极是用磁控溅射的方法进行的,在镀膜机中,以纯镍为靶,在氩气气氛中,控制电流密度在(0.1~1.5)×10-2A/cm2 范围,控制溅射时间在(20~100)S,两电极间距离在(10e5ffurbj83x%cm之间,溅射前先抽真空,真空度为(0.8~3.5)×10-5毫米汞柱,充入氩气后真空度在(2~3.5)×104毫米汞柱;通电后,在基底和孔隙内生长镍,形成含金属镍的电镀用阴极;所说的后处理是在(800~900)℃温度下保温1小时,烧掉聚醚聚胺酯基底。在该专利说明书中对本发明的背景技术、发明目的、采用的技术手段进行了以下介绍:①海绵状泡沫镍是由金属镍构成的有许多较小孔隙的一片镍网板。②已有的海绵状泡沫镍的制备方法,主要包括基底粗化,制作电镀用阴极(泡沫金属化),镀镍,后处理等过程;与本发明最接近的现有技术是申请号为93200 510.1、公开号为0558142的欧洲专利,该现有技术公开了以阴极溅射法对聚氨脂等有机泡沫基体镀覆导电金属制作电镀用阴极,再经电镀制得金属泡沫;在电镀中,以镍为镀液,并加具有光亮剂性能的化合物。③本发明的目的在于改进已有技术的制备工艺过程,以克服已有技术的不足,制备出大面积的均匀的纯度高的海绵状泡沫镍,并且基底不变形,提高成品率。④本发明的海绵状泡沫镍制备方法,其主要过程包括:基底粗化或选用粗化过的聚醚聚胺脂作基底,用磁控溅射方法制作电镀用阴极、镀镍、热处理等。基底粗化过程与已有技术是相同的,也可直接使用经过经过粗化的聚醚聚胺脂作基底制作电镀用阴极。⑤所说的后处理是热处理,即是在(800~900)℃温度下保温1小时,烧掉聚醚聚胺酯基底而成为海绵状泡沫镍。

    本案审理中,原告将该专利权利要求书中存在打印错误校正如下:“聚胺脂”为“聚氨酯”之误;“基体表”为“基体表面”之误;“水洗水燥”为“水洗干燥”之误;“真空度为(2~3.5)×104毫米汞柱”中104为10-4之误。同时将其诉状作以下修正:第2页第2自然段第8行:(0.1~1.5)×10-2A/cm2,更正为(0.1~1.5)×10-2A/cm2;第2页第2自然段第9行:(0.8~3.5)×10-5,更正为(0.8~3.5)×10-5;第2页第2自然段第13行:(0.2~0.5)×10-2A/cm2,更正为(0.2~0.5)×10-2A/cm2。

    ZL95102640.2发明专利于1995年10月11日公开,在其公开说明书中对本发明的背景技术、发明目的、采用的技术手段均进行了介绍。在该公开说明书中有以下内容的描述:①海绵状泡沫镍是由金属镍构成的有许多较小孔隙的一片镍网板。②已有的海绵状泡沫镍的制备方法,主要包括基底粗化、制作电镀电镀用阴极、镀镍、热处理等过程。其中基底粗化是选用聚醚聚胺脂作基底,通过粗化使其孔隙变大,增加表面粗糙程度;其中的制作电镀用阴极是用导电胶方法制作;将制作好的电镀用阴极装夹放入含镍离子的电镀液中,对浸有水溶性的导电胶的基底通电镀镍,镀镍时间约(40~50分钟);热处理过程是将镀镍后的基底水洗干燥后,在(800~900)℃温度下,保温1小时,烧去聚醚聚胺脂;上述过程制备的海绵状泡沫镍,只能制备出小块的海绵状泡沫镍,且镀层不均匀。③本发明的目的在于改进已有技术的制备工艺过程,以克服已有技术的不足,制备出大面积的均匀的纯度高的海绵状泡沫镍,并减少电镀液的损耗和对环境的污染。④本发明的海绵状泡沫镍制备方法,其主要过程包括:基底粗化或选用粗化过的聚醚聚胺脂作基底,用磁控溅射方法制作电镀用阴极、镀镍、热处理等。基底粗化过程与已有技术是相同的,也可直接使用经过粗化的聚醚聚胺脂作基底制作电镀用阴极。⑤本发明可以制备大块的海绵状泡沫镍,每块面积可达1m2以上,且整块是连续的。

    1998年1月1日,国家知识产权局专利局对涉案专利申请作出第一次审查意见通知书,1998年4月14日,专利申请人根据专利局的审查意见进行了答复。在专利申请人的意见陈述书中,引用的对比文献系审查意见通知书所列的对比文献,专利申请人对本发明的创造性进行了如下阐述:本发明跟对比文献比较,其创造性体现在如下几方面:首先是在诸多的泡沫金属化制作电镀阴极方法中,优选了最佳的磁控溅射的方法;其次是总结出了磁控溅射的工艺条件,最后是热处理方法。并称与对比文献相比,本发明权利要求的重点是电镀用阴极的制备方法,且电镀用阴极采用的磁控溅射法可以制成金属化的多孔平板形泡沫,也可以制成卷材。

    还查明, 2005年2月21日,被告沈阳英可公司成立,其经营范围为生产、销售泡沫镍产品及含有色金属产品的研究、开发及相关的客户服务,该公司的股东为加拿大巴巴多斯英可亚洲控股有限公司、韩国镍业株式会社、金昌普公司。

    2007年5月,在深圳举办的CVRD Inco公司第二届(中国)能源材料研讨会上,被告沈阳英可公司对其公司生产泡沫镍的情况进行了介绍,在该次宣传册中的CVRD Inco沈阳公司图片巡展中,其生产泡沫镍的工艺包括PVD真空镀、电镀、热处理、裁剪四个步骤。

    根据原被告提交的证据,本院查明在被告沈阳英可公司生产泡沫镍的PVD真空镀工序中,使用了“IMG-1000型真空磁控溅射溅射镀膜机”,使用的基材是聚脂聚氨脂软泡沫,如BRIDGESTONE公司的HHWR-50型软泡沫。对基材进行镀膜的真空磁控镀膜机内基材两侧对称平行设置一对上下错位相向的镍靶,形状为长方形,镍靶长145 cm,镍靶宽为25 cm,使用的靶材为纯镍,两镍靶上靶的上沿和下靶的下沿之间的垂直距离为850mm, 两镍靶的之间的垂直距离为27cm,基材在上下胶辊间的距离为1570mm。镀膜电流为15~40A,镀膜速度为0.5~2 m/min,本底真空度为2.0×10-2Pa;工作真空度为(2.0~3.0)×10-1Pa。具体操作时的工艺参数为:基材厚度是1.7mm,阴极镍靶镀膜电流为27A,镀膜速度为0.58m/min、0.6m/min,起靶前真空度2.0×10-2Pa,选择氩气气氛,工作真空度为2.1×10-1Pa、2.2×10-1Pa、2.3×10-1Pa。镀膜后基材在电镀工序中完成镍的沉积,所得产品具有不同面密度。该工序预镀时间13分50秒,主镀时间45分17秒,电镀后经水洗干燥后送至热处理工序进行处理。对电镀后产品经过不洗干燥后送至热处理工序进行处理。进行热处理工艺中,氧化处理温度为600~800℃,还原段炉温(800~1000)±10℃,烧结焚烧炉长2.95米,还原炉长6.95米,走速为(8~25)±1米/小时。

    2007年至2008年间,被告凯丰公司从被告沈阳英可公司购进“英可泡沫镍”,并使用其生产电池。

    根据被告沈阳英可公司2006至2008年度的财务报表及审计报告,该公司2006年度至2008年10月的财务收入状况如下:2006年度:主营业务收入为105580664元,主营业务成本为89052524元,主营业务利润为16528140元,其他业务利润为1482478元,减去营业费用、管理费用、财务收入后营业利润为13926418元。2007年度:主营业务收入为187094945元,主营业务成本为164288006元,主营业务利润为22806939元,其他业务利润为158352元,减去营业费用、管理费用、财务收入后营业利润为15990522元。2008年1月至10月31日期间:主营业务收入为105746282.43元,主营业务成本为92202725.90元,主营业务利润为13543556.53元,其他业务利润为563019.09元,减去营业费用、管理费用、财务收入后营业利润为7431209.09元。

    另查明,2007年4月,长沙力元公司与案外人天润公司签署一份《专利转让与合作合同》。该合同第一条规定:“本合同项下所指目标专利分别是:1、《一种海绵状泡沫镍的的制备方法》,专利号ZL95102640.2;2、《泡沫金属化的连续进料生产装置》,专利号为ZL98219558.3”,其中第1项目标专利即本案涉案专利;第二条规定:“乙方(即天润公司)同意将本合同项下的两项目标专利的所有权以人民币260万元转让给甲方(即长沙力元公司)。乙方保证对该两项目标专利的所有权是合法有效和完整的”;第三条规定:“乙方同意将转让生效前所拥有的基于目标专利所产生的权利和利益一并转让给甲方”;第四条规定:“乙方保证与目标专利有关的权益方广西梧州三和新材料科技有限公司放弃对本合同项下目标专利的权属要求,以确保本合同所述的目标专利转让合法有效”;第五条规定了甲方与三和公司另行签订专利排他性使用许可合同,且许可合同的效力是本合同成立并生效的前提条件;第十五条规定,本合同以双方正式签署并在甲方支付第一批转让款之日起生效。合同中还对转让金额及支付时间进行了约定,该《专利转让与合作合同》上加盖有甲乙双方的单位公章,且天润公司签字代表是穆俊江。

    长沙力元公司与天润公司进行专利转让时,还签署了一份《专利转让协议》,双方以该份协议到国家知识产权局专利局进行备案。在该份协议中,双方约定:ZL95102640.2号专利的转让金额是130万元,天润公司同意将转让生效前所拥有的基于目标专利所产生的权利和利益一并转让给长沙力元公司。

    2007年4月29日,长沙力元公司与案外人三和公司签署《专利实施许可合同》。其主要内容为:长沙力元公司同意无偿授予三和公司在国内对包括涉案专利在内的两项专利的排它性使用许可权。

    2007年5月10日,长沙力元公司向天润公司电汇50万元专利转让款;2007年5月29日,天润公司向长沙力元公司出具一张项目名称为“转让费”,金额为“伍拾万元整”的发票。

    本院经向天润公司调查了解到:天润公司与原告方签订的《专利转让与合作合同》已经生效并履行,且天润公司承认在该合同中约定的“基于目标专利所产生的权利和利益”包括其作为专利权期间内追究侵权行为人责任的权利。代表天润公司签署该份《专利转让与合作合同》的是其公司总经理穆俊江,穆俊江现还是三和公司法定代表人,并称三和公司对涉案ZL95102640.2专利不享有任何权属权利。

    2009年2月20日,案外人常德力元公司向湖南省知识产权局提交一份《专利纠纷调解请求书》,请求裁决请求人为目标专利即“一种海绵状泡沫镍的制备方法”的共有权人,并要求被请求人即本案原告依约到国家知识产权局办理专利所有权人变更手续。

    2003年4月8日,案外人金昌普公司与天润公司签订《专利技术合作合同》,双方鉴于:天润公司拥有的两项用磁控溅射方法生产泡沫镍的专利以及金昌普公司是目前国内唯一采用磁控溅射工艺生产泡沫镍的厂家并申请了该工艺的专利,两公司达成了合作事项。双方还约定:双方有义务利用各种方式禁止专利技术的外流,并承诺不得向任何第三方转让该专利技术。

    2007年4月16日,天润公司向金昌普公司发出“关于解除《专利技术合作合同》通知”,天润公司以金昌普公司已将该合同中所指专利技术转让给本案被告沈阳英可公司,且该违约行为已经法院认定,违反了合同约定为由,通知解除与金昌普公司之间的《专利技术合作合同》。天润公司于2007年4月16日向金昌普公司送达了该通知。

    2004年10月17日,金昌普公司与被告沈阳英可公司签订《技术转让协议》,约定将金昌普公司(即转让方)拥有的专利技术和专有技术转让给沈阳英可公司。其中的专有技术是指由金昌普公司获得的和/或用于转让方拥有的,为生产连续卷式发泡镍而曾经使用的技术方面的专有技术和信息。

    再查明,《沈阳工业大学学报》1991年12月版文献《高孔隙度金属-泡沫镍的研制》一文记载:泡沫镍完全保持着泡沫树脂的结构特征;泡沫镍的孔径大小和分布,原则上都是由泡沫树脂所决定;不同孔径泡沫镍的生产,应从原始骨架材料选用上解决;聚酯型和聚醚型同为制造泡沫镍的基材。根据1989年我国轻工业部批准的《软质聚氨酯泡沫塑料》国家标准,聚醚型与聚酯型聚氨酯在表观密度、拉伸强度、伸长率等物理机械性能指标上有不同。

    根据中国有色金属工业总公司创办期刊《稀有金属》1997年第6期中文献《泡沫镍制备方法》的介绍,在我国泡沫塑料生产厂均未制定出泡沫塑料基体孔径的大小和开孔率等参数的考核指标,也就是说,国内还没有为制备泡沫镍用泡沫塑料基体的专业生产厂家。根据2001年7月发表于《电镀与精饰》期刊上的“用电沉积方法制备泡沫镍材料”一文的介绍,泡沫镍性直接影响电池的性能,泡沫镍技术指标中相当一部分取决于泡沫基体材料……泡沫基体材料选择考虑以下几个参数:厚度……孔径……孔率……通孔率。而依据我国《电池用泡沫镍》(国家标准),泡沫镍按生产方式不同分为卷式带状和片式块状两种;而影响泡沫镍物理性能的是面密度、面密度允许偏差、孔数、孔数允许偏差、孔隙率等指标,并对上述技术指标范围有明确要求,如要求孔数在(60~140)PPI、孔隙率在95%以上等。

    根据1989年10月东北工业学院出版社出版的《真空镀膜技术与设备》一文:制备高质量的薄膜,首先必须具备高纯度的靶材和清洁的靶表面。真空溅射中溅射原子的自由程为1~10cm,因此,靶与基片的空间距离应与该值大致相等;否则,粒子在迁移过程中将发生多次碰撞,即降低溅射原子的能量又增加靶材的散射损失。溅射原子能量比蒸发原子能量高1~2个数量级,高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高的多,产生较高热能,增强了溅射原子与基片的附着力;在成膜过程中,基片始终在等离子区被清洗和激活,清除了附着力不强的溅射原子,净化且激活基片表面;对于一般的溅射装置,溅射膜的形成是利用真空辉光放电,等离子区中的正离子由于被阴极靶前的阴极电位降所加速而轰击阴极靶,从而使靶材产生溅射;用膜材制成的靶为阴极,亦称阴极靶,其上通以负高压,为了在辉光放电中使靶面保持可以控制的负电压,靶材必须是导电体;被荷能粒子轰击的靶材处于较高负电位;基片接地,则处于阳极电位,受到等同的电子轰击;基片悬浮,在辉光放电空间取得相对于地电位稍负的悬浮电位,基片周围的等离子体电位高于基片电位,引起一定程度的电子和正离子的轰击,导致膜厚、成分或其它特性的变化;基片有目的地施加偏压,使其按电的极性接收电子或离子,可以净化基片增强薄膜附着力;与直流二级溅射相比较,磁控溅射的区别仅在于正交电磁场对电子的束缚效应;为提高对电子的束缚效应,磁控溅射装置中应当尽可能满足磁场与电场相互垂直;偏压溅射与直流二级溅射的区别在于基片上施加一固定直流偏压;高密度等离子体被电磁场束缚在靶面附近,电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面;溅射率主要与下述因素有关:靶材、入射离子的能量、入射离子的种类、入射离子的入射角、靶材温度;沉积速率是指从靶材上溅射出来的材料,在单位时间内沉积到基片上的厚度,是用来表征成膜速度的物理量,该速率与溅射率成正比;为尽可能地提高沉积速率, 在不影响辉光放电的前提下,基片应该尽量靠近溅射靶;为降低残余气体压力,提高沉积薄膜的纯度,可以通过提高本底真空度和氩气量来解决,为此,在提高真空系统抽气能力的同时,提高本底真空度和加大送氩量是确保薄膜技术纯度必不可少的两项措施,就溅射镀膜装置而言,真空室本底真空度应为10-3-10-4Pa;当工作气体压力增高到一定值时,溅射率开始明显下降,其原因在于靶材粒子的背反射和散射增大,导致溅射率下降,溅射率下降直接影响溅射粒子在基体上的成膜效果下降;为获得好的镀膜质量,优选真空度10-3-10-4Pa,当本底真空度降低时,直接影响镀膜质量。

    1992年7月化学工业出版社出版的《化工辞典》(第三版)记载的电流密度的定义为:电路中某点电流强弱和电流方向的物理量,等于单位时间内通过垂直于电流方向单位面积的电量。

    1991年3月机械工业出版社出版的《薄膜科学与技术手册》(上册)中记载:在平面磁控溅射中,电子受到有效的收聚作用,电离碰撞的频率极高,因此容易获得非常大的轰击靶的电子流密度;除高速磁控溅射方式之外,在其它所有溅射方式中,靶的平均离子电流为1mA/cm2 左右,在高速磁控溅射方式中,很容易达到0~100 mA/cm2。在高速磁控电极中,采用的是不均匀磁场,因此会使等离子体产生局部收聚效应。溅射粒子达到基片时所具有的能量直接决定于靶和基片之间的距离,以及溅射气压;为获得好的镀膜质量,优选真空度10-3~10-4Pa,当本底真空度降低时,直接影响镀膜质量。

    1993年电子科技大学出版的《薄膜物理与技术》高等学院教材中记载:随着电源功率的增大,轰击区逐渐扩大,直到阴极面上的电流密度几乎均匀为止。由于溅射镀膜时的放电电流和靶电流可以控制,通过控制靶电流则可控制膜厚度。由于溅射粒子到达基片时所具有的能量直接决定与靶和基片之间的距离,以及溅射气压。E点以后,离子轰击覆盖整个阴极表面。薄膜的均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一个重要指标,为了提高薄膜厚度均匀性,可采取优化靶基距。

    1989年3月机械工业出版社出版的《表面沉积技术》、1989年5月上海交通大学出版社出版的《金属真空表面强化的原理与应用》、2007年10月化学工业出版社出版的《薄膜材料与薄膜技术》(第二版)中均记载了真空镀膜溅射中靶面的电流密度作为镀膜质量控制参数之一。而在该《表面沉积技术》一书中,还记载了:对于磁控溅射镀膜,由于存在着电磁场的不均匀分布,所造成的不均匀的等离子体密度,导致靶原子的不均匀溅射和不均匀沉积。

    被告沈阳英可公司还以其使用的技术分别被以下技术资料公开为由进行现有技术抗辩,所述现有技术分别为:①1988年6月8日申请的美国第4882232号“多孔金属结构及其制造方法”发明专利,在该专利说明书中记载:本发明的目的是产生一种制造多孔金属结构,特别是网状或纤维结构的新型方法;本方法可应用于由网状或编织结构,或者毡所构成的基体,包括以下几个步骤:a对上述基体进行预镀金属,b需要的话进行化学和(或)电化学镀金属,c必要时除去上述基体,该方法因上述镀金属步骤a包含了真空镀金属这一事实而独具特色;真空镀金属可以通过目前已知的、在其他应用中的任何一种方法来进行,特别是阴极溅射、气体扩散或离子沉积;当所用的基体是泡沫型或者多孔型时,在真空镀步骤a之前,要进行所谓的“开孔”操作,开孔操作旨在打开孔隙以取得网状结构;组成网状基体材料,尤其可以是聚合物,如聚酯、聚酰胺、聚亚安酯、聚醚和树脂;同时在该发明说明书中还对真空镀使用的金属、真空镀工艺的优点及优选的实施例等进行了说明。②1989年10月东北工业学院出版社出版的《真空镀膜技术与设备》中提及,中国自1980年后就开始发展磁控溅射技术,目前在磁控溅射装置和相应的镀膜工艺研究上已出现工业性生产的局面;且在介绍溅射理论时称之为阴极溅射,溅射方式包括二极溅射、高速低温溅(磁控溅射)、偏压溅射等;溅射气体应当具备溅射率高、对靶材呈惰性、价格便宜、来源方便、易于得到高纯度的气体等特点,一般选择氩气;平面磁控溅射的工作条件为阴极电压300~600V,电流密度4~60mA/cm2,氩气压力为0.13~1.3Pa;一般以膜的平均厚度除以沉积时间所定义的平均沉积速率来表征沉积率,为了尽可能地提高沉积速率,基片应尽量靠近溅射靶,但必须保证稳定地异常辉光放电,通常,其最小间距为5~7cm;靶-基距对沉积速率、膜厚均匀度都有影响。③1989年3月机械工业出版社出版的《表面沉积技术》中提及:各种溅射镀膜运行参数中磁控溅射的电流密度是3~50mA/cm2;为保证涂层质量,尽量减少残余空气的污染,物理气相沉积技术要求有较高的本底真空度,均需采用高真空机组抽至10-2~10-3Pa;磁控溅射时的工作气压是10-1~101Pa。④1991年3月机械工业出版社出版的《薄膜科学与技术手册》(上册)提及:无论哪一种溅射方式,由于放电特性受到电极的几何形状、靶材质、放电气压、磁场强度及分布特性等因素的影响;除高速磁控溅射方式之外,在其它所有溅射方式中,靶的平均离子电流密度为1mA/cm2左右,而在高速磁控溅射方式中,很容易达到10~100mA/cm2

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